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手機(jī)/筆電等結(jié)構(gòu)件經(jīng)過(guò)鍛壓、沖壓、注塑、CNC后,表面紋路很粗,毛刺,臟污等,后制程必須經(jīng)過(guò)一些表面處理才能達(dá)到ID外觀需求。
如下為你看到的筆記本是這樣子:

實(shí)際上未經(jīng)任何表面處理的半成品機(jī)殼是這樣子:

下面介紹一些常見(jiàn)的表面處理方法:
一、拋光
一般分三種拋光,即機(jī)械拋光,化學(xué)拋光,電解拋光。
1. 機(jī)械打磨拋光:靠切削力、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸起部分而得到平滑表面的拋光方法。
針對(duì)不同的拋光過(guò)程:分粗拋,中拋,精拋,精拋也叫收光。注意:拋光不能提高工件的尺寸精度或幾何形狀精度,而是以得到光滑表面或鏡面光澤為目的,有時(shí)也用以消除光澤(消光)。

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2. 化學(xué)拋光:靠化學(xué)試劑對(duì)樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法。
一般使用硝酸或磷酸等氧化劑溶液,在一定的條件下,使工件表面氧化,此氧化層又能逐漸溶人溶液,表面微凸起處氧化較快而較多,而微凹處則被氧化慢而少。同樣凸起處的氧化層又比四處更多、更快地?cái)U(kuò)散,溶解于酸型溶液中,因此使加工表面逐漸被整平,達(dá)到改善工件表面粗糙度或使表面平滑化和光澤化的目的。

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3. 電解拋光:實(shí)際上是利用電化學(xué)陽(yáng)極溶解的原理對(duì)金屬表面進(jìn)行拋光的一種方法。電解拋光適用于有色金屬及其他硬度低的單相合金,如鋁合金、奧氏體不銹鋼、高錳鋼等

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二、噴砂
噴砂是利用高速砂流的沖擊作用清理和粗化基體表面的過(guò)程,即采用壓縮空氣為動(dòng)力,以形成高速噴射束將噴料(銅礦砂、石英砂、金剛砂、鐵砂、海南砂)高速噴射到需要處理的工件表面,使工件表面的外表面的外表或形狀發(fā)生變化。

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噴砂后效果
三、金屬拉絲
金屬拉絲是通過(guò)研磨產(chǎn)品在工件表面形成線紋,起到裝飾效果的一種表面處理手段。拉絲的方式有直紋,亂紋,旋紋等。

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拉絲效果
四、陽(yáng)極氧化
陽(yáng)極氧化是指鋁及其合金在相應(yīng)的電解液和特定的工藝條件下,由于外加電流的作用下,在鋁制品(陽(yáng)極)上形成一層氧化膜的過(guò)程。
工藝流程:
單色、漸變色:拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化→中和→染色→封孔→烘干
雙色:
①拋光/噴砂/拉絲→除油→遮蔽→陽(yáng)極氧化1→陽(yáng)極氧化2 →封孔→烘干
②拋光/噴砂/拉絲→除油→陽(yáng)極氧化1 →鐳雕→陽(yáng)極氧化2 →封孔→烘干

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陽(yáng)極氧化后效果
五、PVD
PVD 即物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition)是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場(chǎng)的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

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手機(jī)中框PVD后效果
六、噴涂
噴涂是通過(guò)噴槍或碟式霧化器,借助于壓力或離心力,分散成均勻而微細(xì)的霧滴,施涂于被涂物表面的涂裝方法。

噴涂效果圖
七、電鍍
電鍍是利用電解原理在某些金屬或其它材料制件的表面鍍上一薄層其它金屬或合金的過(guò)程。

電鍍效果圖
八、蝕刻
蝕刻是將材料使用化學(xué)反應(yīng)或物理撞擊作用而移除的技術(shù)。通常所指蝕刻也稱光化學(xué)蝕刻,指通過(guò)曝光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除,在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液,達(dá)到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。

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蝕刻后效果圖
九、IMD
即In-Mold Decoration(模內(nèi)裝飾技術(shù)),亦稱免涂裝技術(shù),是國(guó)際風(fēng)行的表面裝飾技術(shù),表面硬化透明薄膜,中間印刷圖案層,背面注塑層,油墨中間,可使產(chǎn)品耐摩擦,防止表面被刮花,并可長(zhǎng)期保持顏色的鮮明不易退色。

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IMD效果圖 圖片來(lái)自好年璟展臺(tái)
十、鐳雕
鐳雕也叫激光雕刻或者激光打標(biāo),是一種用光學(xué)原理進(jìn)行表面處理的工藝。利用鐳射(laser)光束在物質(zhì)表面或是透明物質(zhì)內(nèi)部雕刻出永久的印記。

后殼LOGO鐳雕
以上為手機(jī)筆電等消費(fèi)性電子產(chǎn)品常見(jiàn)的十大表面處理工藝,如有其他常見(jiàn)工藝,歡迎各位補(bǔ)充。
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作者 ab

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