江蘇微導納米科技股份有限公司，簡稱：微導納米（代碼：688147）
公司以原子層沉積（ALD）技術為核心，主要從事先進微、納米級薄膜沉積設備的研發(fā)、生產和銷售，向下游客戶提供先進薄膜沉積設備、配套產品及服務。
報告期內，公司產品率先用于光伏電池片生產過程中的薄膜沉積環(huán)節(jié)，已覆蓋包括通威太陽能、隆基股份、晶澳太陽能、阿特斯、天合光能等在內的多家知名太陽能電池片生產商。
在成功將 ALD 技術應用于光伏領域后，公司開發(fā)了對技術水平和工藝要求更高的半導體薄膜沉積設備，已先后獲得國內多家知名半導體公司的商業(yè)訂單，并在報告期內實現(xiàn)了國產 ALD 設備在 28nm 集成電路制造關鍵工藝（高介電常數柵氧層材料沉積環(huán)節(jié)）中的突破。
薄膜沉積是指在基底上沉積特定材料形成薄膜，使之具有光學、電學等方面的特殊性能。薄膜沉積設備的設計制造涉及化學、物理、工程等多門學科的跨界綜合運用，按工藝原理的不同可分為物理氣相沉積（PVD）、化學氣相沉積（CVD）和原子層沉積（ALD）設備，按設備形態(tài)的不同可分為批量式（管式）和空間型（板式）兩種技術路線。公司目前產品主要以批量式（管式）ALD 設備為主。
公司已開發(fā)出適用于光伏、半導體等應用領域的多款薄膜沉積設備，涵蓋ALD、PEALD 二合一、PECVD 系列產品，并提供配套產品及服務，具體如下：
報告期內，公司主營業(yè)務收入按產品類別的構成情況如下：
2.行業(yè)的發(fā)展情況和未來發(fā)展趨勢
目前，公司產品主要用于光伏產業(yè)鏈的中游環(huán)節(jié)，為太陽能電池片廠商提供鍍膜設備，用于在電池片正面或背面鍍 Al2O3 和 SiNX，是光伏電池片生產環(huán)節(jié)的關鍵工藝設備。
2010 年以來，全球太陽能光伏產業(yè)進入了高速發(fā)展期，太陽能光伏年裝機容量快速增長，上游相關行業(yè)也得到迅速發(fā)展。2011 年至 2021 年間，全球年度光伏新增裝機容量和累計裝機容量大幅增長，其中，新增裝機容量由 2011 年的 32.2GW 增加至 2021 年的 170GW，增長超過 5 倍。
IRENA 根據《巴黎協(xié)定》制定的目標進行測算，從現(xiàn)在起至 2050 年，與能源有關的二氧化碳排放量需要每年減少 3.5%左右，并在此后持續(xù)減少。因此，全球能源格局的深刻變革對于實現(xiàn)該協(xié)定的氣候目標至關重要。隨著清潔能源的使用和迅速發(fā)展，太陽能和風能將引領全球電力行業(yè)的轉型，取代傳統(tǒng)的化石燃料發(fā)電將成為可能。
截至?2050?年各類能源部門的裝機情況預測（GW）
根據 IRENA 的預測，未來，風力發(fā)電將占總電力需求的三分之一以上，而太陽能光伏發(fā)電將緊隨其后，占總電力需求的 25%，這意味著在未來十年內，太陽能光伏發(fā)電的全球總容量將從 2018 年的 480?GW，到 2030 年達到2,840?GW，到 2050 年達到 8,519?GW。
按年增長率計算，到 2030 年，太陽能光伏發(fā)電的年新增容量較 2018 年水平需要增加近 3 倍，達到 270?GW/年，到 2050年，需要增加 4 倍，達到 372?GW/年。到 2050 年，太陽能光伏將有助于減少4.9Gt 的二氧化碳年排放量，占實現(xiàn)巴黎氣候目標所需能源部門總減排量的21%。
我國太陽能光伏產業(yè)起步相對國外較晚，但受惠于全球光伏行業(yè)的高速發(fā)展，憑借國家政策的大力支持與人力資源、成本優(yōu)勢，發(fā)展極為迅速。
截至2021 年底，我國光伏發(fā)電裝機量達 307GW，同比增長 21%，連續(xù) 7 年位居全球首位；2021 年新增光伏發(fā)電裝機 54.88GW，同比增長 13.9%，連續(xù) 9 年位居世界第一。
2013-2021?年我國太陽能光伏累計及新增裝機容量（GW）
2020 年 9 月中國提出了“努力爭取 2030 年前實現(xiàn)碳達峰，2060 年前實現(xiàn)碳中和”的應對氣候變化新目標。根據中國光伏行業(yè)協(xié)會預測，在“碳達峰、碳中和”目標下，“十四五”期間我國光伏市場將迎來市場化建設高峰，預計國內年均光伏裝機新增規(guī)模在 70-90GW。
根據 Maximize Market Research 數據統(tǒng)計，全球半導體薄膜沉積設備市場規(guī)模從 2017 年的 125 億美元擴大至 2020 年的 172 億美元，年復合增長率為11.2%。預計至 2025 年市場規(guī)?？蛇_ 340 億美元。
目前，國內光伏設備已基本實現(xiàn)國產替代，并在國際競爭中處于優(yōu)勢地位。公司光伏領域薄膜沉積設備的競爭對手包括主要采用 ALD 技術的無錫松煜、理想晶延，以及主要采用 PECVD 技術的捷佳偉創(chuàng)（300724.SZ）、北方華創(chuàng)（002371.SZ）、紅太陽、拉普拉斯、Centrotherm（商先創(chuàng)）等。
在半導體領域設備制造商以國外企業(yè)為主，東京電子（TEL）、先晶半導體（ASM）、泛林半導體（Lam）、應用材料（AMAT）、日本國際電氣（KE）均為全球知名的設備制造商，產品線涵蓋薄膜沉積設備，其基本情況如下：
國內企業(yè)中，主營業(yè)務涵蓋半導體薄膜沉積設備的主要有北方華創(chuàng)（002371.SZ）、拓荊科技（688072.SH）、中微公司（688012.SH）三家，其基本情況如下：
公司 2022 年營業(yè)收入預計為 59,100 至 67,800 萬元，較上年度同比增長38.11%至 58.44%；2022 年歸屬于母公司股東的凈利潤預計為 2,300 至 4,200 萬元，較上年度同比下降 50.12%至 8.92%；2022 年扣除非經常性損益后歸屬于母公司股東的凈利潤預計為 600 至 2,200 萬元，較上年度同比下降 77.52%至17.57%。
公司 2022 年預計營業(yè)收入較上年同比有所增長，扣除非經常性損益后歸屬于母公司股東的凈利潤有所下降，主要系公司設備產品驗收周期長，導致收入確認與因訂單增加而相應增加的管理、銷售費用周期不一致，以及公司持續(xù)加大研發(fā)投入，導致研發(fā)費用增加所致。
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