1.鈣鈦礦電池制備:PVD設(shè)備→涂布設(shè)備→激光設(shè)備→封裝設(shè)備
從協(xié)鑫光電公布的工藝流程圖上看,整個(gè)工藝需要9步,主要設(shè)備包括PVD設(shè)備、涂布設(shè)備、激光設(shè)備。
其中,涂布設(shè)備難度更大。因?yàn)殁}鈦礦是把鹵化物溶液涂在玻璃或者是硅片上,溶液結(jié)晶,形成光伏的吸光材料;目前沒(méi)有任何的生產(chǎn)活動(dòng),需要這樣的結(jié)晶工藝。PVD設(shè)備不僅應(yīng)用在鈣鈦礦電池,晶硅電池的生產(chǎn)也需要,其他的行業(yè)生產(chǎn)也有可能會(huì)用到PVD技術(shù)。激光設(shè)備需求更為明確。
鍍膜設(shè)備:用于制備陽(yáng)極緩沖層、陰極緩沖層、背電極。國(guó)內(nèi)鈣鈦礦電池鍍膜設(shè)備商如下:
涂布設(shè)備:主要用于制作鈣鈦礦吸光層。其中狹縫涂布作為一種精密的涂布技術(shù),其工作原理是涂布液在一定壓力一定流量下沿著涂布模具的縫隙擠壓噴出而轉(zhuǎn)移到基材上。相比其它涂布方式,具有很多優(yōu)點(diǎn),如涂布速度快、精度高、濕厚均勻等;由于涂布系統(tǒng)封閉,在涂布過(guò)程中能防止污染物進(jìn)入,漿料利用率高、能夠保持漿料性質(zhì)穩(wěn)定,可同時(shí)進(jìn)行多層涂布。國(guó)內(nèi)鈣鈦礦電池涂布設(shè)備商主要如下:
激光設(shè)備:激光刻蝕機(jī)在鈣鈦礦太陽(yáng)能電池中的作用是對(duì)P1、P2、P3進(jìn)行激光劃線(xiàn),阻斷導(dǎo)通,從而形成單獨(dú)的模塊,其中一般理解為P1為FTO導(dǎo)電玻璃,P2為ITO或鈣鈦礦層,P3為鍍金材料或鍍銀材料,也有一些項(xiàng)目組采用碳粉材料。國(guó)內(nèi)鈣鈦礦電池激光設(shè)備商主要如下:
封裝設(shè)備:封裝層壓成光伏組件的關(guān)鍵設(shè)備。
目前,常見(jiàn)的鈣鈦礦太陽(yáng)能的電池封裝技術(shù)有兩種:第一種封裝技術(shù)是使用蒸發(fā)金屬?lài)娚淦骱秃附咏饘賻㈦娏鲝碾姵貍鲗?dǎo)到外部,并將金屬帶的邊緣密封,器件位于封閉空腔中心。第二種封裝技術(shù)是利用透明的ITO電極將鈣鈦礦與金屬電極分離,確保電極與PSCs之間有一定的橫向間隙,封裝的一邊直接是ITO電極,進(jìn)而可以更好的密封整個(gè)器件。這兩種都是“封邊”式封裝技術(shù)。
國(guó)內(nèi)鈣鈦礦電池封裝設(shè)備商主要如下:
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