
DPC(Direct Plating Copper, DPC) 陶瓷基板具備高線路精準(zhǔn)度、高表面平整度、高絕緣及高導(dǎo)熱的特性,在半導(dǎo)體功率器件封裝領(lǐng)域迅速占據(jù)了重要的市場(chǎng)地位,廣泛應(yīng)用于大功率 LED、半導(dǎo)體激光器、 VCSEL等領(lǐng)域。
直接鍍銅是在陶瓷薄膜工藝加工基礎(chǔ)上發(fā)展起來的陶瓷電路加工工藝。以陶瓷作為線路的基板,采用濺鍍工藝于基板表面復(fù)合金屬層,并以電鍍和光刻工藝形成電路。
以下為DPC 陶瓷板生產(chǎn)工藝流程簡(jiǎn)述?
(1)檢查
對(duì)陶瓷基板進(jìn)行檢查,檢查基板的外觀、規(guī)格、品名及數(shù)量等。
(2)激光打孔切割
根據(jù)設(shè)計(jì)的產(chǎn)品規(guī)格要求,激光打孔,并利用激光切割機(jī)去掉產(chǎn)品多余的部分,此過程主要去掉基板微量的陶瓷。?
(3)瓷片清洗
在瓷片清洗線上對(duì)原材料瓷片進(jìn)行清洗,去除油污、粉塵。根據(jù)原料不同,采用浸洗工藝,分為酸性清洗和堿性清洗兩種工藝。?
(3)磁控濺射
磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一?般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
磁控濺射的工作原理是指電子在電場(chǎng)?E?的作用下,在飛向基片?過程中與氬原子發(fā)生碰撞,使其電離產(chǎn)生出?Ar?正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar?離?子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。在濺射粒子中,?中性的靶原子或分子沉積在基片上形成薄膜。
(4)下底銅(化學(xué)沉銅):
①除油:基板的表面脫脂,使基板表面油污除去,提高后續(xù)工藝的處理效果?;~前處 理中的除油采用堿性除油劑。
②化學(xué)微蝕:去除銅面上的氧化物及其他雜質(zhì),同時(shí)粗化銅表面增加基銅與干膜間的結(jié) 合力,微蝕的化學(xué)反應(yīng)式:?Cu+Na2S2O8 →CuSO4+Na2SO4?
③預(yù)浸:為防止水帶到隨后的活化液中,防止貴重的活化液的濃度和?pH?值發(fā)生變化, 通常在活化槽前先將生產(chǎn)板件浸入預(yù)浸液處理,預(yù)浸后板件直接進(jìn)入活化槽中。
④活化:活化的作用是在基體粗糙表面上吸附一層具有催化活動(dòng)的金屬鈀顆粒,使經(jīng)過活化的基體表面具有催化還原金屬銅的能力,從而使化學(xué)鍍銅反應(yīng)在整個(gè)催化處理過的基體表面?順利進(jìn)行。?
使用的活化液膠體鈀溶液主要成份為?SnCl2、PdCl2。基板浸于膠體鈀的酸性溶液中,在活化溶液內(nèi)?Pd-Sn?呈膠體,沉積于基板通孔及表面上,作為化學(xué)鍍銅沉積的底材。
⑤速化:速化的作用既是在化學(xué)沉銅前除去改部分在鈀周圍包圍著的堿式錫酸鹽化合物,以使鈀核完全露出來,增強(qiáng)膠體鈀的活性,可以顯著提供后續(xù)化學(xué)鍍銅層與基體間的結(jié)合強(qiáng)度。板件在活化槽活化后,加入一定比例(體積比約?5g/L)的氟硼酸型加速劑,使堿式錫酸鹽化合物重新溶解,反應(yīng)方程式為:?
2HBF4+SnCl2→Sn(BF4)2+2HCl
4HBF4+Sn(OH)4→Sn(BF4)4+4H2O?
2HBF4+Sn(OH)Cl→Sn(BF4)2+HCl+H2O
Pd?膠體吸附后必須去除?Sn,使?Pd?2+暴露,才能在化學(xué)鍍銅過程中產(chǎn)生催化作用形成化學(xué)鍍銅層。
⑥化學(xué)沉銅:是一種催化氧化還原反應(yīng),因?yàn)榛瘜W(xué)沉銅銅層的機(jī)械性能較差,在經(jīng)受沖擊時(shí) 易產(chǎn)生斷裂,此處化學(xué)沉銅采用酸性工藝,以甲醛為還原劑,在堿性催化條件下進(jìn)行,使?Cu?2+離子?得到電子還原成金屬銅。沉銅浸泡操作?30~40min?后進(jìn)入溢流水洗操作。?
(5)線路
線路前處理?
①酸洗:采用酸性除油劑去除工件表面殘留的雜質(zhì)
②噴砂:使用水混合金剛砂噴射到銅表面,進(jìn)一步去除氧化面和產(chǎn)生粗糙度。?
③微蝕:將?DPC?基板放入槽中,利用酸溶液和雙氧水對(duì)基板表層進(jìn)行腐蝕加工,使?Cu 表面產(chǎn)生最佳的粗糙度,促進(jìn)?Cu?與化學(xué)鎳的良好附著。
線路印刷
兩種線路印刷方式,分別是貼膜和絲網(wǎng)印刷線路油墨。?
貼膜:在?DPC?基板表面利用貼膜機(jī)貼上一種感光干膜,貼膜工段溫度為?110~120℃,采 用電加熱的方式加熱,貼膜后室溫冷卻?30?分鐘。?
印刷線路油墨:采用線路油墨對(duì)線路板板面進(jìn)行絲網(wǎng)印刷,后續(xù)預(yù)烤將油墨中的稀釋劑 揮發(fā)掉,使油墨層處于一種半硬化狀態(tài)。該工序在密閉的烤箱中進(jìn)行,使用電能,溫度控制在?50~70℃之間,預(yù)烤持續(xù)時(shí)間約?30~50min。?
(6)曝光
將貼膜后的?DPC?基板使用曝光機(jī)進(jìn)行漏光加工,首先裝底片,位置對(duì)準(zhǔn),然后曝光處理。
(7)顯像
放入顯像機(jī)內(nèi),在紫外線的照射下,感光干膜被曝光的區(qū)域發(fā)生聚合反應(yīng),形成一種穩(wěn)定的不溶于碳酸鈉的物質(zhì)附著于基板表面,非線路部分感光性干膜未接受到平行光照射而不發(fā)生聚合反應(yīng)。
(8)電鍍銅
電鍍銅以銅球作陽(yáng)極,CuSO4?和H2SO4?作電解液,在鉆孔及整個(gè)半成品表面形成一層薄的銅膜,不僅使通孔內(nèi)的銅層加厚,同時(shí)也可使熱壓在外表面的銅箔加厚,為后續(xù)的電鍍提供基底。?
①脫脂:采用酸性除油劑去除工件表面殘留的雜質(zhì),使用酸性除油劑的溶液進(jìn)行脫脂。
②微蝕:將?DPC?基板放入槽中,利用酸溶液對(duì)基板表層進(jìn)行腐蝕加工,使?Cu?表面產(chǎn)生 最佳的粗糙度,促進(jìn)?Cu?與化學(xué)鎳的良好附著。
③酸浸:將?DPC?基板放入槽中,利用硫酸溶液對(duì)基板表層進(jìn)行清洗。
④鍍銅:對(duì)?DPC?基板進(jìn)行鍍銅加工,采用掛鍍方式進(jìn)行加工。
⑤剝掛:使用濃硝酸將掛架上的銅剝離下來。
(9)研磨:使用研磨機(jī)上的砂帶將部分銅層去除,并打磨去除部分基板上的干膜, 研 磨機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)使用水進(jìn)行沖刷。?
(10)退膜、蝕刻、退鈦:?
①膨松、褪膜
分別使用不同濃度的氫氧化鈉溶液浸泡基板,使其表面的干膜膨脹軟化便于去除,產(chǎn)生高濃度有機(jī)廢水,第一次水洗產(chǎn)生高濃度有機(jī)廢水,后續(xù)水洗產(chǎn)生低濃度有機(jī)?廢水。?
②銅蝕刻
分為酸性蝕刻和堿性蝕刻,其中酸性蝕刻使用氯酸鈉蝕刻工藝,堿性蝕刻使用氨水蝕刻工藝。?
酸性蝕刻:3Cu+NaClO3+6HCl→3CuCl2+NaCl+3H2O?
堿性蝕刻:Cu + 4NH? + 2H?O → [Cu (NH?)?]2 + 2OH? + H?↑
[Cu (NH?)?]2+?+Cu→2 [Cu (NH?)2]?1+?
③退鈦?
該工段將基板上磁控濺射階段附著在基板上的鈦層蝕刻掉,反應(yīng)原理如下:?Ti + 4HF→TiF4?+2H2?
④微蝕、酸洗
為保證蝕刻和清潔效果,退鈦后使用低濃度酸液進(jìn)行清洗。
(11)AOI
AOI(Automatic Optic Inspection)的全稱是自動(dòng)光學(xué)檢測(cè),是基于光學(xué)原理來對(duì)線路板生產(chǎn)中遇到的常見缺陷進(jìn)行檢測(cè)的設(shè)備。在?D.E.S?工序后對(duì)基板進(jìn)行?AOI?檢測(cè),剔除不合格的基板。?
(12)阻焊?
防焊的目的是在線路板表面不需焊接的部分導(dǎo)體上刷上一層阻焊油墨,使在下游組裝焊接 時(shí),其表面處理或焊接只局限在指定區(qū)域,在后續(xù)表面處理或焊接與清洗制程中保護(hù)板面不受污染,?以及保護(hù)線路避免氧化和焊接短路。
①酸洗:使用硫酸調(diào)配槽液清除銅面殘留的油脂、指紋、灰塵、氧化物及有機(jī)污染物, 確保后續(xù)處理均勻有效。
②微蝕:使用過硫酸鈉在酸性條件下去除去除銅面輕微氧化層,形成均勻粗糙表面,提高OSP?膜附著力。反應(yīng)原理:Cu+Na2S2O8→CuSO4+Na2SO4?
③酸洗:使用使用硫酸調(diào)配槽液清除銅面殘留的油脂、指紋、灰塵、氧化物及有機(jī)污染 物,確保后續(xù)處理均勻有效。
④絲網(wǎng)印刷:采用防焊油墨對(duì)線路板板面進(jìn)行絲網(wǎng)印刷。
⑤預(yù)烤:將油墨中的稀釋劑揮發(fā)掉,使油墨層處于一種半硬化狀態(tài)。該工序在密閉的烤箱中進(jìn)行。?
⑥曝光、顯影:線路板在絲印防焊油墨后,將需要焊接的地方在曝光時(shí)遮住,使得在顯?影后焊盤裸露出來,以便進(jìn)行后續(xù)的表面處理。?
用絲網(wǎng)印刷的方式將防焊油墨批覆在板面后,送入紫外線曝光機(jī)中曝光,油墨在底片透光區(qū)域(焊接端點(diǎn)以外部分)受紫外線照射后產(chǎn)生聚合反應(yīng)(該區(qū)域的油墨在稍后的顯影步?驟中將被保留下來),以碳酸鈉水溶液將涂膜上未受光照的區(qū)域顯影去除。
⑦后烤:最后加以高溫烘烤使油墨中的樹脂完全硬化。
(13)文字印刷
在整個(gè)印制板上貼阻焊膜或涂一層阻焊油墨,防止焊接時(shí)產(chǎn)生橋接現(xiàn)象,提高焊接質(zhì)量;同時(shí),提供長(zhǎng)時(shí)間的電氣環(huán)境和抗化學(xué)保護(hù)。接著再進(jìn)行曝光、顯影,?利用感光成像原理將焊盤裸露出來;再通過絲印字符對(duì)印制板進(jìn)行文字標(biāo)識(shí)。?
(14)表面處理?(OSP、沉鎳金、沉鎳鈀金、電鎳金、沉銀、沉鎳組合)
(15)成品清洗?
產(chǎn)品進(jìn)入成品清洗線,在?40℃下將產(chǎn)品表面附著的雜物清洗干凈。基板先進(jìn)行酸洗,再經(jīng)水洗進(jìn)行清洗。
*文章內(nèi)容來源:廣東漢瓷科技有限公司建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境影響報(bào)告表
*文章封面來源:程天文《DPC 陶瓷基板電鍍關(guān)鍵技術(shù)研究》,德邦研究所
推薦活動(dòng):第五屆陶瓷基板及封裝產(chǎn)業(yè)論壇(2025年6月12日·蘇州)
2025年6月12日
蘇州日航酒店
地址:蘇州市虎丘區(qū) 長(zhǎng)江路368號(hào)
一、暫定議題
第五屆陶瓷基板及封裝產(chǎn)業(yè)論壇議題 | ||
序號(hào) | 暫定議題 | 擬邀請(qǐng)企業(yè) |
1 | 金屬化陶瓷基板在光器件的應(yīng)用進(jìn)展 | 蘇州聯(lián)結(jié)科技有限公司執(zhí)行董事謝斌教授 |
2 | 高端陶瓷封裝基板金屬化新技術(shù)與產(chǎn)業(yè)化進(jìn)展 | 北大深圳研究院副教授吳忠振 |
3 | 功率模塊用AMB基板覆銅技術(shù)及性能研究 | 寧波江豐同芯副總經(jīng)理俞曉東 |
4 | 氧化鈹基板新型金屬化技術(shù)研究與應(yīng)用 | 宜賓紅星電子有限公司技術(shù)中心副主任陳超 |
5 | 大尺寸AlN表面活性金屬釬焊(AMB)覆銅板工藝制程及應(yīng)用 | 擬邀合肥圣達(dá)電子科技實(shí)業(yè)有限公司 |
6 | 晶圓級(jí)金剛石高功率用芯片基板 | 中科粉研河南超硬材料有限公司 |
7 | PVD真空鍍膜技術(shù)在陶瓷基板的應(yīng)用 | 廣東匯成真空科技股份有限公司 |
8 | 無釬焊料驅(qū)動(dòng):Si?N?和AlN陶瓷基板LAB技術(shù)對(duì)傳統(tǒng)AMB的革新突破 | 哈爾濱工業(yè)大學(xué)(威海)特聘副研究員宋延宇 |
9 | 芯片陶瓷封裝基板缺陷檢測(cè)大模型關(guān)鍵技術(shù)與裝備 | 東北大學(xué)軟件學(xué)院教授信息化建設(shè)與網(wǎng)絡(luò)安全辦公室主任(正處級(jí))于瑞云 |
10 | 高品級(jí)氮化鋁粉末規(guī)?;苽浼皯?yīng)用 | 廈門鉅瓷科技有限公司技術(shù)總監(jiān)魯慧峰 |
11 | 高純氧化鋁基板的制備 | 擬邀請(qǐng)基板企業(yè)/高校研究所 |
12 | ZTA陶瓷基板的關(guān)鍵制備技術(shù)與應(yīng)用 | 擬邀請(qǐng)基板企業(yè)/高校研究所 |
13 | 氧化鋁陶瓷金屬化技術(shù)的研究進(jìn)展 | 擬邀請(qǐng)基板企業(yè)/高校研究所 |
14 | 金剛石多晶在新能源散熱方面的應(yīng)用 | 擬邀請(qǐng)材料企業(yè)/高校研究所 |
15 | 金剛石在高性能電子電力的應(yīng)用 | 擬邀請(qǐng)材料企業(yè)/高校研究所 |
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