外延是指在碳化硅襯底的表面,生長(zhǎng)出的一層質(zhì)量更高的單晶材料,在導(dǎo)電型碳化硅襯底表面生長(zhǎng)一層碳化硅外延層,稱為同質(zhì)外延;在半絕緣型碳化硅襯底上生長(zhǎng)氮化鎵外延層,則稱為異質(zhì)外延。
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碳化硅晶體在生長(zhǎng)過程中會(huì)不可避免地產(chǎn)生缺陷、引入雜質(zhì),導(dǎo)致襯底材料的質(zhì)量和性能都不夠好,而外延層的生長(zhǎng)可以消除襯底中的某些缺陷,使晶格排列整齊。目前幾乎所有的器件都是在外延上實(shí)現(xiàn)的,因此外延的質(zhì)量對(duì)器件的性能有著決定性的影響。
根據(jù) CASA 統(tǒng)計(jì),2022年SiC功率電子市場(chǎng)規(guī)模約為21億美元,預(yù)計(jì)到 2027年SiC功率電子市場(chǎng)規(guī)模接近80億美元,復(fù)合增長(zhǎng)率為 30%。外延占碳化硅功率器件成本結(jié)構(gòu)的 23%,價(jià)值量占比較高。
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出于降本的需要,國(guó)內(nèi)企業(yè)在6英寸碳化硅外延生長(zhǎng)上已經(jīng)實(shí)現(xiàn)逐步放量,并開始延展至對(duì)8英寸外延的研發(fā)投產(chǎn)。
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