3月13日，據(jù)日媒報道，三菱電機在日本熊本縣菊池市舉行新功率半導體工廠奠基儀式。該工廠將生產(chǎn)新一代具有高效性能的SiC（碳化硅）襯底產(chǎn)品，并于4月開始施工，目標在兩年內(nèi)竣工并投入運營。
圖為三菱電機和ROHM的功率半導體生產(chǎn)基地
新工廠將位于三菱電機子公司的前液晶相關工廠的舊址，建設一棟6層樓建筑，總面積達42,000平方米。
作為SiC半導體的核心生產(chǎn)基地，該工廠計劃采用自動化生產(chǎn)線，包括引進無人機器人等措施以節(jié)省勞動力。通過采用最新的設施，預計將減少約30%的用水量，并能將約70%的廢水回收再利用。
功率半導體是控制電力的半導體器件，其中SiC比傳統(tǒng)材料硅具有更高能效。由于全球脫碳計劃和電動汽車（EV）的普及，其市場需求正在迅速增長。三菱電機半導體與設備業(yè)務部高級執(zhí)行官Masayoshi Takemi表示：“我們希望通過這座采用尖端技術的工廠，為全球脫碳做出貢獻。
原文始發(fā)于微信公眾號（艾邦半導體網(wǎng)）：三菱電機新建碳化硅工廠，目標兩年投入運營