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1月18日，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備領(lǐng)先供應(yīng)商EV集團(tuán)（EVG）現(xiàn)推出EVG?7300自動化SmartNIL?納米壓印與晶圓級光學(xué)系統(tǒng)。EVG7300是EV集團(tuán)最先進(jìn)的解決方案，在單個平臺中結(jié)合了多種紫外線工藝技術(shù)，包括納米壓印光刻（NIL）、鏡片成型和鏡片堆疊（紫外線鍵合）。
這部面向行業(yè)的多功能系統(tǒng)旨在滿足多種新興應(yīng)用的研發(fā)和生產(chǎn)需求，這些新興應(yīng)用大多涉及微米和納米圖案成型以及功能層堆疊技術(shù)，包括晶圓級光學(xué)系統(tǒng)（WLO）、光學(xué)傳感器和投影儀、汽車照明、增強(qiáng)現(xiàn)實耳機(jī)波導(dǎo)、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備、超透鏡和超表面，以及光電子學(xué)應(yīng)用。EVG7300支持最大300毫米晶圓尺寸，具有高精度調(diào)準(zhǔn)、先進(jìn)工藝控制和高吞吐量等優(yōu)勢，可滿足多種自由曲面和高精度納米和微光學(xué)元件與器件的大批量制造需求。
EV集團(tuán)企業(yè)技術(shù)總監(jiān)托馬斯·格林斯納（Thomas Glinsner）表示：“EV集團(tuán)深耕納米壓印技術(shù)領(lǐng)域二十余載，我們將繼續(xù)在這一重要領(lǐng)域開拓創(chuàng)新，開發(fā)出新型解決方案，滿足不斷變化的客戶需求。EVG7300是EV集團(tuán)納米壓印解決方案系列的最新成員，將我們的SmartNIL全場壓印技術(shù)與透鏡成型和透鏡堆疊技術(shù)結(jié)合于頂級系統(tǒng)，擁有市場上最精確的調(diào)準(zhǔn)和工藝參數(shù)控制功能，為我們的客戶帶來了前所未有的靈活性，足以滿足行業(yè)研究和生產(chǎn)需求?！?/section>
EVG7300系統(tǒng)既可作為獨立工具，也可用作EV集團(tuán)HERCULES? NIL全面集成型UV-NIL跟蹤解決方案中的集成模塊。UV-NIL解決方案可添加額外的預(yù)處理步驟，例如清潔流程、抗蝕劑涂層、烘焙或后處理等，以滿足特定工藝的優(yōu)化需求。EVG7300系統(tǒng)結(jié)合了調(diào)準(zhǔn)平臺改進(jìn)、高精度光學(xué)、多點間隙控制、非接觸式間隙測量和多點力控制等技術(shù)，達(dá)到了業(yè)內(nèi)領(lǐng)先的調(diào)準(zhǔn)精度（最低可至300納米）。EVG7300是一種高度靈活的平臺，提供三種工藝模式（透鏡成型、透鏡堆疊和SmartNIL納米壓?。С謴?50毫米到300毫米晶圓的基板尺寸。該高效平臺能夠快速加載印戳和晶圓、快速調(diào)準(zhǔn)光學(xué)器件、提供高功率固化功能，且工具尺寸小巧，能夠充分滿足行業(yè)對新型晶圓級光學(xué)系統(tǒng)（WLO）產(chǎn)品的制造需求。
原文始發(fā)于微信公眾號（艾邦半導(dǎo)體網(wǎng)）：EVG推出自動化納米壓印與晶圓級光學(xué)系統(tǒng)
