6月21日,蘇州威邁芯材半導(dǎo)體有限公司與合肥新站高新區(qū)簽訂投資合作協(xié)議,計劃建設(shè)高端光刻材料產(chǎn)業(yè)基地。
作為光刻工藝的核心材料,光刻膠關(guān)系到芯片良率、穩(wěn)定性、能效等關(guān)鍵參數(shù)。當(dāng)前,主流半導(dǎo)體制程維持在10-150nm之間,對應(yīng)的中高端ArF/KrF光刻膠市場需求相對較大。
聚焦光刻材料市場,蘇州威邁芯材研發(fā)生產(chǎn)包括光致產(chǎn)酸劑PAG、半導(dǎo)體前驅(qū)體Precursors、BARC層樹脂Resin、PI等在內(nèi)的核心技術(shù)材料。其子公司W(wǎng)IMAS參與諸多知名半導(dǎo)體企業(yè)電子核心材料供貨。此次簽約的高端光刻材料產(chǎn)業(yè)基地主要圍繞半導(dǎo)體及新型顯示行業(yè)用高端光刻材料的國產(chǎn)化落地及量產(chǎn)化建設(shè)。
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