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1.前言
前文所述,封裝路線的方向一直在向高性能輕薄化演進,為封裝行業(yè)帶來了全新的挑戰(zhàn)和機遇。英特爾公司選擇了基于基板(Substrate)的TCB(Thermal Compression Bonding 熱壓鍵合)工藝以替代傳統(tǒng)的回流焊(Reflow)。該設備為英特爾和ASMPT公司聯合開發(fā),并于2014年導入量產,該設備有著極高的加工精度及豐富的可擴展性,不但可用于基板級封裝,還可用于晶圓級封裝,這就為英特爾在之后數年推出EMIB,Foveros等先進封裝方式打下了扎實基礎。
英特爾先進封裝之熱壓鍵合(TCB)工藝介紹
圖1. 英特爾的Co-EMIB MCP (Multi-Chip-Package)封裝產品
英特爾先進封裝之熱壓鍵合(TCB)工藝介紹
圖2 英特爾的Foveros封裝(芯片堆疊工藝)
我們將會先從英特爾為什么要引入TCB,從它前一代的技術回流焊遇到了什么樣的挑戰(zhàn)開始,然后介紹TCB的工藝細節(jié),設備細節(jié)以及量產應用中的優(yōu)化。最后再談談筆者自己的看法。
2.回流焊工藝及其挑戰(zhàn)回顧
典型的倒裝回流焊如圖3所示:將芯片上的BUMP先浸蘸助焊劑,并貼在基板上。在進入回流爐前,助焊劑的粘性可將芯片軟性固定,以防止其位置偏移,之后進入回流爐。在特定的升溫降溫(溫度曲線如圖4)下,凸點焊球會熔化為液態(tài),在潤濕銅微柱的過程中基于表面張力使得芯片回流對位,最后在降溫作用下變成固相連接。
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圖3 芯片貼裝流程 Flux Film: 助焊劑層,Flux Pot: 助焊劑容器,Flux Dipping: 助焊劑浸蘸, Position Flip chip on the substrate: 將芯片倒置對準基板上, Place Flip chip onto substrate: 將芯片放置于基板上,Reflow:回流焊,Flip chip soldering completed: 完成芯片倒裝焊
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圖4 標準的回流焊曲線
3.TCB 工藝介紹
但是由于超薄產品的引入,回流焊的缺陷率就開始增加如圖5所示:翹起,非接觸性斷開,局部橋接等。回流焊的另外一個不足在于,芯片的位置容易發(fā)生偏移,一是料盤/載具在傳輸過程中受震動影響,二是回流過程中芯片的自由偏移。焊接凸點間距(Pitch)越小,芯片尺寸越大,則偏移失效越嚴重。
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圖5 回流焊流程中的各種缺陷
正是由于以上回流焊中的缺陷率越來越高,英特爾引入了TCB工藝。具體流程為:

1, 基板(Substrate)在涂覆Flux后,被真空吸附固定在定制的加熱板上。

2,貼片頭(BondHead)吸起芯片(Die),芯片在真空吸附下平整的貼合吸頭(Nozzle)之下。

3,光學相機輔助定位,基板所在的解熱板位置微移,與芯片完成對位。

4,BondHead向下運動,直到接觸到基板的時候停止。

5,Bondhead加載一個壓應力,同時芯片會被快速加熱直至錫球熔化溫度。

6,在錫球熔化的一刻,BondHead會將芯片繼續(xù)向下走微小的距離,以確保所有的凸點能夠連接。

7,芯片在該高度保持數秒,確保錫球完全熔化浸潤芯片和基板上的連接點。

8,之后在熔融狀態(tài)下,BondHead向上提升一定的高度,以得到預期的焊接高度。

9,最后,BondHead快速降溫,錫焊變?yōu)楣滔唷ondhead釋放真空,回到待機位置。

在整個過程中,TCB會實時監(jiān)測BondHead的溫度(Temperature),吸頭的應力( Bond Force)和Z方向的位移 (Bond Head Z Postion),其曲線如圖6所示。整個焊接過程不超過4秒。
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圖6 TCB 焊接過程中曲線圖
在TCB焊接過程中,錫球(Solder Ball)由固態(tài)轉變?yōu)橐簯B(tài)的一步非常關鍵,會相應觸發(fā)BondHead由應力控制轉為位置控制。另外一個有趣的現象就是錫球液化后的表面張力的影響,在壓力曲線上會產生負值。由于該效應比較微弱,很容易與其他失效混淆,增加了信號識別難度。
下一篇我們將介紹:TCB熱壓鍵合設備詳細介紹,敬請關注公眾號。歡迎訪問艾邦半導體網:www.ab-sm.com。
作者:查理
本文主要參考文獻為:Thermo-compression Bonding for Fine-pitch Copper-pillar Flip-chip Interconnect – Tool Features as Enablers of Unique Technology

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作者 li, meiyong

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