據(jù)日本化學(xué)工業(yè)日報消息，日本可樂麗計劃到今年年底把用于半導(dǎo)體的化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）拋光墊產(chǎn)能提高一倍。倉敷工廠（岡山縣倉敷市）將得到加強(qiáng)，將于今年年底投產(chǎn)。
可樂麗開發(fā)了一種硬質(zhì)非發(fā)泡聚氨酯 CMP 墊，是利用其在人造革 CLARINO? 開發(fā)過程中積累的聚氨酯設(shè)計和制造技術(shù)開發(fā)的新材料。
可樂麗的 CMP 拋光墊具有高硬度、極低的劃痕形成以及由于其出色的耐磨性而具有較長時間的持續(xù)時間，因此可用于拋光和平面化設(shè)備。
與一般的發(fā)泡聚氨酯相比，凸部的拋光性優(yōu)異，不易磨損，具有壽命長、降低成本的優(yōu)點(diǎn)。日本主要半導(dǎo)體廠商正在采用，預(yù)計今年年底海外廠商將首次決定采用。
原文始發(fā)于微信公眾號（艾邦半導(dǎo)體網(wǎng)）：日本可樂麗計劃將CMP拋光墊產(chǎn)能增加一倍