2022 年 9 月 19 日，為 MEMS、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場提供晶圓鍵合和光刻設(shè)備的領(lǐng)先供應(yīng)商 EV Group (EVG) 和全球領(lǐng)先的光掩模供應(yīng)商株式會(huì)社凸版光掩模（Toppan Photomask Co. Ltd. ）宣布他們已經(jīng)達(dá)成一項(xiàng)協(xié)議，聯(lián)手推進(jìn)納米壓印光刻 (NIL) 作為光子學(xué)行業(yè)的大批量制造 (HVM) 工藝。
此次合作結(jié)合了 NIL 系統(tǒng)的領(lǐng)先供應(yīng)商和先驅(qū)者以及半導(dǎo)體市場光掩模領(lǐng)先供應(yīng)商的優(yōu)勢，旨在將 NIL 建立為光子制造的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)流程，并加速其在 HVM 中的實(shí)施以支持各種應(yīng)用。這些應(yīng)用包括增強(qiáng)/混合/虛擬現(xiàn)實(shí)耳機(jī)、智能手機(jī)和汽車傳感器，以及醫(yī)學(xué)成像系統(tǒng)。
作為這種非排他性合作的一部分，EVG 和 Toppan Photomask 將匯集他們的知識、專業(yè)知識和服務(wù)，利用 Toppan Photomask 的主模板和 EVG 提供的設(shè)備和工藝開發(fā)服務(wù)提供 NIL 開發(fā)套件，以進(jìn)一步促進(jìn) NIL 技術(shù)及其在工業(yè)規(guī)模實(shí)施中的可能性。此外，EVG 將在位于奧地利總部的 EVG 的 NILPhotonics? 能力中心向感興趣的公司提供 NIL 技術(shù)和產(chǎn)品演示。此外，彼此都將指定對方作為推薦的供應(yīng)鏈合作伙伴，供有興趣利用 NIL 支持其生產(chǎn)需求的公司使用。
據(jù)介紹，傳統(tǒng)光刻技術(shù)在解決需要?jiǎng)?chuàng)建小型和任意形狀圖案的未來應(yīng)用，例如超透鏡，正在達(dá)到極限。NIL 是一種經(jīng)過驗(yàn)證的、具有成本效益的工藝，可在復(fù)雜結(jié)構(gòu)上生成納米級分辨率圖案，因此是這些應(yīng)用的可行替代方案。NIL 可以在大面積上非常有效地復(fù)制這些復(fù)雜結(jié)構(gòu)，設(shè)計(jì)約束更少，工藝流程非常簡化，適用于原型制作和大批量制造。
20 多年來，EVG 一直是 NIL 技術(shù)的先驅(qū)，并通過 NIL 供應(yīng)鏈中的合作伙伴關(guān)系幫助培育了更廣泛的 NIL 生態(tài)系統(tǒng)——從光學(xué)材料（如粘合劑和抗蝕劑）、基板材料和印模生產(chǎn)供應(yīng)商到光學(xué)元件和設(shè)備制造商。Toppan Photomask Co., Ltd.是自2022年4月起從凸版印刷株式會(huì)社剝離，作為凸版印刷株式會(huì)社（持股 50.1％）和INTEGRAL 株式會(huì)社的合資公司而成立。EVG 和 Toppan Photomask 分別通過在光刻和光掩模制造領(lǐng)域的兩家知名行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)者之間的合作，旨在推動(dòng) NIL 作為光子學(xué)行業(yè)的主流 HVM 技術(shù)的采用。
原文始發(fā)于微信公眾號（艾邦半導(dǎo)體網(wǎng)）：EV集團(tuán)和凸版光掩模聯(lián)手加速納米壓印光刻在光子制造中的應(yīng)用