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WLCSP(Wafer-Level Chip-Scale Package)是一種將晶圓級(jí)封裝(WLP)和芯片尺寸封裝(CSP)合為一體的封裝技術(shù)。芯片尺寸封裝(CSP)是指整個(gè)package的面積相比于silicon總面積不超過120%的封裝技術(shù)。該技術(shù)有效促進(jìn)集成電路的小型化,但是其不適合服務(wù)器級(jí)處理器的應(yīng)用。晶圓級(jí)封裝(WLP)是指在晶圓前道工序完成后,直接對(duì)晶圓進(jìn)行封裝,再切割分離成單一芯片,相對(duì)于傳統(tǒng)封裝將晶圓切割成單個(gè)芯片后再進(jìn)行封裝,WLP 技術(shù)在封裝成本和生產(chǎn)效率等方面具有明顯的優(yōu)勢。目前大部分先進(jìn)封裝,比如英特爾的Foveros系列,臺(tái)積電的SOIC, InFO等等都是基于晶圓級(jí)的。WLCSP則是巧妙地結(jié)合上述兩種封裝方式的優(yōu)點(diǎn)。相比于傳統(tǒng)的引線鍵合,WLCSP最大特點(diǎn)就是封裝體積小,互聯(lián)路徑短。WLCSP的應(yīng)用非常廣泛,相比于引線鍵合工藝能夠更好地滿足便攜式電子設(shè)備、智能手機(jī)、平板電腦、可穿戴設(shè)備等小型高集成度產(chǎn)品的需求。但是WLCSP也是有其局限性的,因其可用于bump的面積受silicon面積限制,所以總共的IO(input/output)數(shù)量有限,通常其IO密度也相對(duì)較低。

Flip Chip Technologies(于2014年被天水華天收購)在1998年公布了其UltraCSP的專利技術(shù)。他們提出使用再分布層 (RDL) 將芯片的外圍焊盤向芯片內(nèi)部扇入并通過焊球(或凸塊)連接到印刷電路板(PCB)或封裝基板。自2001年開始,Amkor等其他OSATs和晶圓代工廠得申請(qǐng)得到了Flip Chip Technologies的許可來使用UltraCSP技術(shù),自此WLCSP逐步被大規(guī)模應(yīng)用。值得一提的是,這一專利已經(jīng)過了20年的有效期了。成立于2003年的天水華天科技在2014年末以約2.58億元收購了Flip Chip Technologies的100%股權(quán)。通過本次收購,華天科技進(jìn)一步提高了在晶圓級(jí)封裝及flip chip封裝上的技術(shù)水平。算得上是一次相當(dāng)成功的收購。圖一顯示了天水華天在Phoenix的分部 Flip Chip International。

值得一提的是大陸封測三巨頭,長電,通富和華天的發(fā)家史都曾成功收購境外先進(jìn)封測廠。長電科技公司于2003年上市是中國半導(dǎo)體業(yè)第一家上市公司。長電科技作為大陸封測龍頭,取得如今的地位是跟2015年以“蛇吞象”方式收購星科金朋是分不開的。2015年長電科技以7.8億美元的價(jià)格收購了當(dāng)時(shí)全球排名第四位的新加坡廠商星科金朋 Statschippac,使其一下子躋身全球封測行業(yè)第一梯隊(duì)。2007年上市的通富微電在2015年收購了AMD在蘇州及馬來西亞檳城的兩家專門從事封測業(yè)務(wù)的子公司各85%的股權(quán)。通過此次收購,通富微電得到了AMD的芯片封裝和測試業(yè)務(wù),進(jìn)而鞏固了其在國內(nèi)的領(lǐng)先地位并進(jìn)一步提升了公司的行業(yè)影響力和海外知名度。這里提到的重大收購案都是在中美科技站開打之前,放如今都是很難完成的交易。

晶圓級(jí)封裝(WLCSP)簡介

圖一:天水華天在Phoenix的分部 Flip Chip International

WLCSP可以從有無重布線層來分成兩種結(jié)構(gòu)類型:直接凸塊BOP (bump on pad)和重布層RDL(Redistribution Layer)。直接凸塊WLCSP包含一個(gè)可選的介電層(常見的有聚酰亞胺,苯并環(huán)丁烯 和聚苯并雙惡唑等),這個(gè)層用作有源裸片表面上的應(yīng)力緩沖器。該介電層覆蓋了除連接焊盤開窗區(qū)域(pad opening)之外的整個(gè)裸片面積。在這些開窗區(qū)域之上濺射或電鍍凸塊下金屬層(UBM)。UBM是不同金屬層的堆疊,包括抗擴(kuò)散層、潤濕層和抗氧化層。然后通過植球回流焊方式來形成焊球或者銅柱加錫膏凸塊。與直接凸塊WLCSP不同的是,重布層WLCSP使用兩層或者更多的介電層。第一層介電層和BOP工藝一樣附在裸片上。然后通過光刻顯影薄膜沉積電鍍等工藝在介電層上形成金屬層。金屬層通過垂直通孔和芯片的pads相連。如果集成度比較高的話,可能需要更多層的重布線。接下去需要在金屬層上再敷上一層介電層,然后在介電層打孔形成vias。然后類似于第一層金屬層的流程來完成制造第二層金屬層。同樣的方法,還可以繼續(xù)用類似的工藝增加更多的重布線層。目前重布線層一般不超過4層。最后在表面涂布表面介電層,然后通過植球形成C4或者帶銅柱的C2 bumps。

由于BOP WLCSP工藝流程可以被包含到RDL WLCSP中,接下來我們來大體地講講RDL WLCSP的制造工藝流程步驟。如圖二所示,一層RDL WLCSP的主要制造流程步驟有:

  1. 清洗前端制程完成后的晶圓,通常使用超聲波清洗
  2. 旋涂Spin coating介電層,常用的介電層材料有聚酰亞胺(PI)苯并環(huán)丁烯 (BCB)、聚苯并雙惡唑 (PBO) 等聚合物, 偶爾也會(huì)用到基板材料ABF等。
  3. 固化介電層,通常需要一個(gè)小時(shí)。介電層的厚度通常在4-7微米之間
  4. 旋涂Spin coating涂上光刻膠
  5. 然后使用光刻技術(shù)(對(duì)準(zhǔn),曝光,顯影)在光刻膠層對(duì)應(yīng)芯片pads的地方打開通孔。然后通常用干法蝕刻 PI、BCB或PBO介電層。介電層通孔完成后剝離光刻膠。取決于線距線寬,bump pitch等因素,也可以使用激光直接在介電層上鉆孔。這種方案更經(jīng)濟(jì),流程也更簡單。
  6. 在整個(gè)晶圓上濺射鈦銅種子層,通常種子層相對(duì)來說比較薄,不超過2微米
  7. 旋涂光刻膠
  8. 通過曝光顯影等來定義金屬層結(jié)構(gòu)
  9. 在光刻膠開口處電鍍銅,也可以根據(jù)需要來電鍍鎳鈀金
  10. 剝離光刻膠
  11. 蝕刻掉鈦銅種子層
  12. 旋涂Spin coating介電層
  13. 旋涂Spin coating涂上光刻膠
  14. 然后使用光刻技術(shù)(對(duì)準(zhǔn),曝光,顯影)在光刻膠層對(duì)應(yīng)焊盤凸點(diǎn)的地方打開通孔。然后通常用干法蝕刻 PI、BCB 或 PBO介電層。介電層通孔完成后剝離光刻膠
  15. 在整個(gè)晶片上濺射鈦銅種子層
  16. 涂上光刻膠和掩模,然后用光刻技術(shù)打開凸點(diǎn)焊盤上的通孔以暴露帶有 UBM 的區(qū)域
  17. 電鍍銅芯
  18. 電鍍焊料,通常是SnAg等材料
  19. 剝離光刻膠
  20. 蝕刻掉鈦銅種子層
  21. 涂抹助焊劑并回流焊料

多層RDL WLCSP的制造工藝,就是重復(fù)步驟2-11。另外PI材料本身就是一種光刻膠,所以在使用PI作為介電材料層時(shí),光刻膠相關(guān)的步驟就可以略去。

晶圓級(jí)封裝(WLCSP)簡介
圖二:WLCSP的主要制造流程步驟

只有正面有介電層的WLCSP芯片的mechanical reliability是相對(duì)比較差的。背面碎裂和側(cè)壁開裂等failure modes相當(dāng)程度上限制WLCSP的應(yīng)用。成本較高的5面甚至6面塑封WLCSP封裝工藝大大改進(jìn)了可靠性,進(jìn)而也越來越受歡迎。星科金朋(2015年被長電收購)在2011年公布了他們的5面塑封WLCSP專利,他們稱之為eWLCSP,如圖三所示。芯片的背面和四個(gè)側(cè)面都受到塑封料保護(hù)。值得指出的是eWLCSP跟eWLB技術(shù)是非常類似的。關(guān)注艾邦,今后我們還會(huì)詳細(xì)講講eWLB技術(shù)。星科金朋的eWLCSP跟Chip first face down扇出型工藝非常類似。Device wafer經(jīng)過CP測試后被切割成一個(gè)個(gè)芯片。良品芯片被選擇出來重新貼裝到一個(gè)晶圓載板上。塑封后把芯片從晶圓載板脫離開。在芯片的正面做重布線層,植球等,最后切割成一個(gè)個(gè)單顆eWLCSP芯片。

晶圓級(jí)封裝(WLCSP)簡介
圖三:星科金朋的eWLCSP工藝

晶圓級(jí)封裝(WLCSP)簡介
圖四:6面受保護(hù)的WLCSP

新加坡的UTAC公司,臺(tái)灣的矽品公司和大陸的華天科技分別在2015年,2016年和2018年推出了6面受保護(hù)的WLCSP,如圖四所示。UTAC公司的WLCSP芯片的四個(gè)側(cè)面和正面受到環(huán)氧樹脂保護(hù),芯片的背面則是由傳統(tǒng)的膠帶貼膜的方法。矽品和華天科技公司則是推出了6面都受環(huán)氧樹脂保護(hù)的WLCSP芯片制造工藝。這三家公司的WLCSP工藝是非常相似,不同之處在于他們背面芯片的保護(hù)層工藝。他們都沒有像星科金朋那樣去先切割和臨時(shí)鍵合到一個(gè)晶圓載板上再塑封,然后翻過來再去來制作重布線,植球,劃片等工藝。如圖五所示,他們的工藝流程大體可以分成以下步驟:

  1. 清洗前端制程完成后的晶圓
  2. 重布線層制作
  3. 植球
  4. 晶圓厚度部分切割
  5. 晶圓正面塑封
  6. 背部研磨直到都出環(huán)氧樹脂層
  7. 芯片背部塑封
  8. 切割
晶圓級(jí)封裝(WLCSP)簡介

受益消費(fèi)電子、汽車電子等小尺寸芯片的需求拉動(dòng),WLCSP 封裝的市場容量已結(jié)占到先進(jìn)封裝總量的約12%。我們預(yù)計(jì)WLCSP封裝市場容量有望進(jìn)一步提升。艾邦半導(dǎo)體在后面的文章中會(huì)接著這個(gè)話題討論P(yáng)LCSP封裝工藝和市場現(xiàn)狀。

參考文獻(xiàn):

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作者 li, meiyong

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